TEL:886-2-2567-2205    FAX:886-2-2521-0022

台北市中山區錦州街28號11樓   (台泥大樓旁)

11F. No.28, Jinzhou St., Zhongshan Dist., Taipei City 104, Taiwan (R.O.C.)

推薦網站

Recommended website

戰國策智權版權所有/非經同意不得翻印轉載或以任何方式重製

The right are owned by TSipo/Must not be reproduced or reproduced in any way without approve

第25期 台灣DRAM的未來? DRAM專利技術大剖析! PRAT 2/3

April 16, 2009

IPAMA智管會/TSipo戰國策 李文強Conway/所 王維位 發表

2009/04/16

 

由於美國專利局自2000年11月29日開始實施早期公開制度:凡在2000年11月29日之後提出申請之申請案,即適用早期公開制度,自該申請日或優先權日之十八個月將被公開。

美國早期公開制度的實施會造成專利趨勢的變化,所以以下的分析將以2000年11月29日為分界點。

 

 

1971~2000/11/28之間

DRAM主要發展之技術專利地圖

 

統計自USTPO,EPO,JP,WIPO公開、公告專利資料庫,專利筆數達15156筆(patent family 篩除後)!從上圖我們可以看到,在2000/11/28前主要發展技術的專利群組有:Etch Dielectric Oxide、 Trench Material Insulating、 Film Insulating Electrode、 Insulating Contact Drain、 Amplifier Sense Voltage、 Voltage Supply Reference、 Address Column Row。

 

 

1971~2000/11/28之間歷年專利申請數量統計表

從上圖可以看到1971~2000/11/28期間歷年專利申請數量,我們可依其曲線,大致將其分為三個區間,起步(1971~1989)、萌芽(1990~1993)、快速發展(1994~2000/11/28),在快速發展期間我們可以看到,在短短6年間專利申請數量有著爆發性的成長!

 

 

1971~2000/11/28三區間專利布局之專利地圖

 

 

從這三張圖我們可以看到在起步(1971~1989)、萌芽(1990~1993)、快速發展(1994~2000/11/28)三區間專利布局的狀況。在起步、萌芽兩階段確實有部份技術正在逐漸興起,但在快速發展階段,則是很平均的散佈在整張專利地圖上,在此可以推知在DRAM產業內各技術是平穩地一齊發展!

 

1971~2000/11/28之間歷年專利IPC趨勢圖

從上面我們可以得知G11C 0007、G11C 0011比較偏向描述數位儲存方面的構件(元件),而H01L 0021、H01L 0027則是較偏向半導體製程或裝置,接著我們來看下面這張IPC(3階)趨勢圖:

由上圖可得知,H01L此類別在1996~1998年間,其專利申請數量急速的上升,在此可以推得,1996~1998年間製程設備相關技術迅速蓬勃發展,導致專利申請數量增加!雖然G11C此類別也有增加,但其增幅的幅度並不比H01L高。而全球DRAM廠在新廠的廠房及設備投資上,從1995年破記錄的超額投資76.3億美元,較1994年成長33%,而超額投資的結果,即是出現供過於求,進而導致DRAM價格下滑(見下表),在此期間技術仍不斷研發,在1999年第四季時透過國際大廠的聯合減產讓DRAM價格止跌回穩,而製程技術較先進的廠商也終於出現獲利。

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

待續...

下期將針對2000/11/29至今此階段之專利地圖

作更精闢的專利分析,敬請期待!

 

 

 

如需進階/高階破解專利資訊及分析請洽本所~!!

 

戰國策智權事務所
網址:http://www.tsipo.com
地址:台北市中山區錦州街28號11樓
電話:(02)2752-3366
傳真:(02)2752-9949
E-mail:tsipo@tsipo.com

 

 

Share on Facebook
Share on Twitter
Please reload

訂閱電子報